Numéro
J. Phys. Colloques
Volume 49, Numéro C4, Septembre 1988
ESSDERC 88
18th European Solid State Device Research Conference
Page(s) C4-717 - C4-720
DOI https://doi.org/10.1051/jphyscol:19884151
ESSDERC 88
18th European Solid State Device Research Conference

J. Phys. Colloques 49 (1988) C4-717-C4-720

DOI: 10.1051/jphyscol:19884151

GaInAs CAMEL DIODES GROWN BY MBE

M. MARSO1, A. CHIN2, P. BHATTACHARYA2 et H. BENEKING1

1  Institute of Semiconductor Electronics, Sommerfeldstrasse, D-5100 Aachen, F.R.G.
2  Department of Electrical Engineering and Computer Science, University of Michigan, AM Arbor, MI 48109-2122, U.S.A.


Résumé
Cet article présente les caractéristiques d'une diode du type "camel", fabriqué en GaInAs sur substrat InP, avec un facteur d'idéalité de 1,6 à 1,7. La hauteur de barrière de potentiel est 0,44 eV. Des mesures à inversion de courant montrent l'absence de temps d'emmagasinage et un retard à la descente de 660 à 740 ps pour une diode de 50 µm * 50 µm.


Abstract
In this paper we present a camel diode in GaInAs on a InP-substrate with an ideality factor of 1.6 - 1.7. The barrier height is 0.44 eV. Switching measurements show no storage time and a fall time of 660 - 740 ps for a 50 µm * 50 µm device.