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J. Phys. Colloques
Volume 45, Numéro C9, Décembre 1984
31st International Field Emission Symposium / 31ème Symposium International d'Emission de Champ
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| Page(s) | C9-477 - C9-481 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1984979 | |
J. Phys. Colloques 45 (1984) C9-477-C9-481
DOI: 10.1051/jphyscol:1984979
ATOM PROBE ANALYSIS OF ADDITION AGENT BEHAVIOR IN ELECTRODEPOSITION
M. Leisch et K.D. RendulicInstitut für Festkörperphysik, Technische Universität Graz, A-8010 Graz, Austria
Résumé
Nous avons réalisé une analyse à l'aide d'un spectromètre à temps de vol pour déterminer de quelle manière et dans quel le mesure des molécules organiques, ajoutées par électrolyse sont incorporées dans des dépôts galvaniques de platine. En plus de la détermination de la quantité totale de substance organique déposée avec le métal, la concentration relative de différents fragments moléculaires nous donne une information supplémentaire sur le mode d'inhibition.
Abstract
We have performed a TOF atom probe analysis to determine in which manner and to what extent organic agents added to the plating solution are incorporated into platinum electrodeposits. From the type of molecule fractions incorporated one can gain information about the particular process of inhibition involved.