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J. Phys. Colloques
Volume 50, Numéro C8, Novembre 1989
36th International Field Emission Symposium
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| Page(s) | C8-309 - C8-313 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1989852 | |
36th International Field Emission Symposium
J. Phys. Colloques 50 (1989) C8-309-C8-313
DOI: 10.1051/jphyscol:1989852
Institut für Festkörperphysik, Technische Universität Graz, A-8010 Graz, Petersgasse 16, Austria
J. Phys. Colloques 50 (1989) C8-309-C8-313
DOI: 10.1051/jphyscol:1989852
FIELD ION MICROSCOPIC INVESTIGATIONS OF DEPOSITION, ADHESION AND FIELD DESORPTION OF CARBIDES ON TUNGSTEN
E. KRAUTZ et G. HAIMLInstitut für Festkörperphysik, Technische Universität Graz, A-8010 Graz, Petersgasse 16, Austria
Résumé
Plusieurs procédées sont appliqués pour produire des revêtements des carbures sur métaux réfractaires particulièrement de carbure de titane sur tungstène. L'adhésion des couches est contrôlée bien par désorption atomique de la zone intermédiaire en hauts champs électriques.
Abstract
Several methods for the deposition of transition metal carbides on refractory metals have been applied, especially for titanium carbide on tungsten. The adhesion of the coatings on the substrates has been tested successfully by atomic field desorption of the interface region in high electric fields.