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J. Phys. Colloques
Volume 44, Number C10, Décembre 1983
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis
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| Page(s) | C10-119 - C10-122 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:19831025 | |
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis
J. Phys. Colloques 44 (1983) C10-119-C10-122
DOI: 10.1051/jphyscol:19831025
1 Département de Physique, Université d'Oran, Algeria
2 L.E.I. du C.N.R.S., 1, place A. Briand, 92195 Meudon, France
J. Phys. Colloques 44 (1983) C10-119-C10-122
DOI: 10.1051/jphyscol:19831025
DETERMINATION OF THE DIELECTRIC CONSTANT OF CdS BY ELLIPSOMETRY, INTERFEROMETRY AND BY OPTICAL EXCITATION OF SURFACE PLASMONS
M. Abraham1, A. Mahmoudi1, A. Tadjeddine2 et J.P. Rolland21 Département de Physique, Université d'Oran, Algeria
2 L.E.I. du C.N.R.S., 1, place A. Briand, 92195 Meudon, France
Résumé
Trois méthodes complémentaires (ellipsométrie, interférométrie et excitation des plasmons de surface) sont utilisées pour déterminer la constante diélectrique de films de CdS déposés sur un substrat d'argent entre 700 et 450 nm.
Abstract
Three complementary methods, ellipsometry, interferometry and surface plasmon (SP) excitation, are used to determine the dielectric constant of CdS deposited on a silver substrate over the wavelength range 700-450 nm