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J. Phys. Colloques
Volume 45, Numéro C2, Février 1984
10ème Congrès International d'Optique des Rayons X et de Microanalyse 10th International Congress on X-Ray Optics and Microanalysis |
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| Page(s) | C2-43 - C2-46 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1984211 | |
10th International Congress on X-Ray Optics and Microanalysis
J. Phys. Colloques 45 (1984) C2-43-C2-46
DOI: 10.1051/jphyscol:1984211
A CORRECTION PROCEDURE FOR CHARACTERISTIC FLUORESCENCE IN MICROPROBE ANALYSIS NEAR PHASE BOUNDARIES
G.F. Bastin, F.J.J. van Loo, P.J.C. Vosters et J.W.G.A. VrolijkLab. for Physical Chemistry, Eindhoven University of Technology, P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, fie Netherlands
Résumé
On propose une méthode de correction des effets de fluorescence par raie caractéristique au voisinage des limites de phase. On donne les formules correspondant au cas d'une interface plane entre deux alliages homogènes. Une méthode itérative en est déduite pour le calcul des profils de concentration. La méthode est illustrée par quelques exemples et on discute brièvement de ses limites.
Abstract
A correction procedure is proposed to correct for the effects of Characteristic fluorescence in EPMA near phase boundaries. The necessary equations for the case of two homogeneous alloys sharing a common flat interface are given. Based on these equations an iterative correction procedure is proposed for application to sloping concentration profiles. The procedure is illustrated on some practical examples and some of the factors connected with its performance are briefly discussed.