Numéro
J. Phys. Colloques
Volume 43, Numéro C5, Décembre 1982
Colloque International sur l'Epitaxie des Semiconducteurs / Epitaxial Growth of Semiconductor Material
Page(s) C5-185 - C5-191
DOI https://doi.org/10.1051/jphyscol:1982522
Colloque International sur l'Epitaxie des Semiconducteurs / Epitaxial Growth of Semiconductor Material

J. Phys. Colloques 43 (1982) C5-185-C5-191

DOI: 10.1051/jphyscol:1982522

QUANTUM WELL AND MODULATION DOPED GaAs - Gal-xAlxAs HETEROSTRUCTURES

P.M. Frijlink et J. Maluenda

Laboratoires d'Electronique et de Physique Appliquée, 3, Avenue Descartes, 94450 Limeil-Brévannes, France


Résumé
MOVPE est appliqué à la réalisation de puits quantiques Ga1-xAlxAs - GaAs. Des puits aussi étroits que 25 Å sont obtenus. La qualité des interfaces est caractérisée par photoluminescence en fonction de la raideur des transitions de concentration d'aluminium. Aucun désordre d'alliage n'est observé. On met en evidence un accord remarquable entre les énergies de transition électron-trou lourd (n = 1) et celles calculées à partir d'un simple modèle de puits rectangulaire. Les résultats montrent que la transition GaAlAs-GaAs s'effectue en moins de 5 Å. Des hétérostructures à dopage modulé ont été obtenues dans des conditions de croissance similaires. Des résultats préliminaires sur la mobilité de Hall et des caractéristiques de TEC seront présentés.


Abstract
Ga1-xAlxAs - GaAs quantum wells are grown by MOVPE. Wells as narrow as 25 Å are made. Interface quality in relation to alloy clustering and abruptness in change of Al-content is characterized with the aid of luminescence spectrum measurements. A remarkable agreement is found between the experimental n = 1 electron to heavy hole transition energies and those which are calculated with the simple rectangular well model. The results indicate that the Al content changes at the interfaces over less than are unit cell. Modulation doped heterostructures were made in the same growth conditions as used for the quantum well growth. Results of Hall mobility measurements and preliminary FET characteristics are shown.