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J. Phys. Colloques
Volume 33, Numéro C4, Octobre 1972
COLLOQUE INTERNATIONAL DU C. N. R. S. SUR LA PHYSIQUE DES PHONONS DE TRÈS HAUTE FRÉQUENCE / ON THE PHYSICS OF VERY HIGH FREQUENCY PHONONS
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Page(s) | C4-3 - C4-10 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1972402 |
J. Phys. Colloques 33 (1972) C4-3-C4-10
DOI: 10.1051/jphyscol:1972402
RADIATION OF PHONONS BY METALLIC FILMS
H. J. MARISPhysics Department, Brown University, Providence, Rhode Island, U. S. A.
Résumé
On considère la génération de phonons par une couche métallique mince, chauffée par un courant électrique, en contact avec un cristal diélectrique maintenu à basse température. Le taux de génération des phonons par l'interaction électrons-phonons est obtenu. On montre que dans le cas des métaux contenant une concentration suffisante d'impuretés, la génération des phonons due à la diffusion inélastique des électrons par les impuretés peut constituer un processus important.
Abstract
The generation of phonons by a heated metallic film on a dielectric crystal substrate at low temperatures is considered. The film is assumed to be heated by an electric current. The rate of generation of phonons by the electron-phonon interaction is derived. It is shown that in metals containing a large number of impurities an important mechanism of phonon generation may be the inelastic scattering of electrons at the impurities.