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J. Phys. Colloques
Volume 50, Number C5, Mai 1989
Actes de la 7ème Conférence Européenne sur les Dépôts Chimiques en Phase Gazeuse / Proceedings of the Seventh European Conference on Chemical Vapour Deposition
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| Page(s) | C5-549 - C5-555 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1989564 | |
J. Phys. Colloques 50 (1989) C5-549-C5-555
DOI: 10.1051/jphyscol:1989564
ÉTUDE THERMODYNAMIQUE DU PROCESSUS DE DÉPÔT PAR LA TECHNIQUE DU "MUR CHAUD" - APPLICATION AUX SYSTÈMES Pb-Te, Pb-Se, Pb-Se-Te
M. MULLER, B. LIAUTARD, R. ASTIER, G. BRUN et J.C. TEDENACLaboratoire de Physicochimie des Matériaux, UA-407 USTL, Place E. Bataillon, F-34060 Montpellier Cedex, France
Résumé
La technique du Mur Chaud (H.W.E.) est une méthode simple permettant la croissance de films minces de semiconducteurs. Nous l'avons appliquée au système Pb-Se-Te. Nous développons tout d'abord, une étude théorique des conditions de dépôt permettant d'optimiser les paramètres expérimentaux. A partir du résultat de ces calculs, des couches de PbSe, PbTe et PbSe1-xTex ont été déposées et une première caractérisation par Microscopie Electronique à Balayage, diffraction des rayons X et spectrométrie Infrarouge est présentée.
Abstract
A thermodynamic approach concerning the deposition process of semiconductor layers is described. Results of calculations are applied to the growth of PbSe, PbTe and PbSe1-xTex thin layers, using the H.W.E. technique. The films are characterised by SEM, Xray diffraction and IR analysis.