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J. Phys. Colloques
Volume 44, Number C10, Décembre 1983
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis
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| Page(s) | C10-23 - C10-26 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:19831003 | |
J. Phys. Colloques 44 (1983) C10-23-C10-26
DOI: 10.1051/jphyscol:19831003
ON THE ACCURACY OF ELLIPSOMETRIC THICKNESS DETERMINATIONS FOR VERY THIN FILMS
D. Chandler-Horowitz et G.A. CandelaSemiconductor Materials and Processes Division, National Bureau of Standards, Washington, DC 20234, U.S.A.
Résumé
L'incertitude sur la mesure éllipsométrique de l'épaisseur d'un film sur un substrat peut être déterminée d'une façon quantitative. Nous avons utilisé la solution des différentielles de l'épaisseur du film et de l'indice de réfraction. Les résultats des calculs pour le système air-SiO2-Si sont présentés. Cette théorie a été utilisée pour calculer l'incertitude sur la valeur de l'épaisseur. Nous avons aussi calculé cette erreur quand 1'incertitude sur 1'indice de réfraction est connue. Nous montrons quelles incertitudes contribuent le plus à la précision totale sur la mesure de l'épaisseur.
Abstract
The uncertainty in the ellipsometric determination of the thickness of a film on a substrate can be found quantitatively. We have used the solution of the differentials of film thickness and refractive index. Results of calculations for the air-SiO2-Si system are presented. This theory has been used to calculate the uncertainty in the value of the thickness as a function of wavelength. We have also calculated this uncertainty for known uncertainty in the film's refractive index. We show which uncertainties contribute the most to the overall accuracy of a thickness measurement.