| Numéro |
J. Phys. Colloques
Volume 44, Numéro C5, Octobre 1983
Interactions Laser-Solides, Recuits par Faisceaux d'Energie / Laser-Solid Interactions and Transient Thermal Processing of Materials
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| Page(s) | C5-445 - C5-448 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1983565 | |
Interactions Laser-Solides, Recuits par Faisceaux d'Energie / Laser-Solid Interactions and Transient Thermal Processing of Materials
J. Phys. Colloques 44 (1983) C5-445-C5-448
DOI: 10.1051/jphyscol:1983565
Standard Telecommunication Laboratories, London Road, Harlow, Essex, U.K.
J. Phys. Colloques 44 (1983) C5-445-C5-448
DOI: 10.1051/jphyscol:1983565
THERMAL PULSE ANNEALING OF TITANIUM AND TANTALUM SILICIDES
P.J. Rosser et G. TomkinsStandard Telecommunication Laboratories, London Road, Harlow, Essex, U.K.
Résumé
Des couches de titanium et de tantale ont été aspergées avec du silicon. La possibilité d'utilisation de techniques de trempage par impulsions pour la formation de disilicides à basse résistivité a été indiquée.
Abstract
Titanium and tantalum films were cosputtered with silicon. The feasibility of using pulse anneal techniques to form the low resistivity disilicides is shown.