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J. Phys. Colloques
Volume 51, Numéro C5, Septembre 1990
European Congress on Thermal Plasma Processes and Materials Behaviour at High Temperature
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| Page(s) | C5-419 - C5-424 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1990550 | |
J. Phys. Colloques 51 (1990) C5-419-C5-424
DOI: 10.1051/jphyscol:1990550
DISPOSITIF PLASMA POUR L'OXYDATION DYNAMIQUE DE RÉFRACTAIRES. APPLICATION AU GRAPHITE
A. BENHAYA et B. GRANIERIMP-CNRS, BP n° 5, ODEILLO, 66120 Font-Romeu, France
Résumé
On décrit un dispositif pour l'étude de l'oxydation dynamique de réfractaires. Il associe une torche à plasma soufflé d'argon et un réacteur à haute température. On présente des résultats concernant l'étude de l'oxydation dynamique du graphite dans un domaine allant de 1500 à 2200K pour les températures de l'échantillon, de 1600 à 3800K et 60 à 120 m/s pour les températures et vitesse du gaz avec des concentrations d'oxygène de 1 à 10% en volume.
Abstract
An experimental set up is described for the study of the dynamic oxidation of refractories compounds. It associates an Argon plasma torch and a high temperature reactor. Results concerning dynamic oxidation of graphite are given for conditions ranging from 1500 to 2200K for samples temperature, 1600 to 3800K and 60 to 120 m/s for temperature and velocity of the gaz stream with an oxygen concentration of 1 to 10% volume.