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J. Phys. Colloques
Volume 51, Numéro C4, Juillet 1990
Multilayer Amorphisation by Solid-State-Reaction and Mechanical Alloying
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| Page(s) | C4-291 - C4-297 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1990436 | |
J. Phys. Colloques 51 (1990) C4-291-C4-297
DOI: 10.1051/jphyscol:1990436
PREPARATION OF COMPOSITION-MODULATED FILMS BY ALTERNATE ELECTRODEPOSITION FROM DIFFERENT ELECTROLYTES
G. BARRAL et S. MAXIMOVITCHCentre de Recherche en Electrochimie Minérale et Génie des Procédés, UA CNRS 1212, INPG-ENSEEG, Domaine Universitaire, BP. 75, F-38402 Saint Martin d'Hères, France
Résumé
Des films métalliques Ni/Zn de composition modulée sont préparés par une méthode électrochimique consistant en une électrolyse alternée dans des solutions différentes. Les films sont caractérisés par le diagramme du courant de dépot en fonction du temps, par diffraction de rayons X et par observation de la tranche des dépots au microscope à balayage, avant et après attaque du zinc. Des couches d'une épaisseur moyenne de 20 à 500 nm sont réalisées.
Abstract
Composition-modulated films of Ni/Zn have been prepared with an electrochemical method involving alternate electrolysis in different solutions. The films are characterized by the deposition current vs time diagram, by X-ray diffraction and SEM examination of the film cross-section before and after Zn attack. Films with about 20 to 500nm layer thicknesses are obtained.