CARACTÉRISATION DES MÉTAUX RÉFRACTAIRES DE HAUTE PURETE OBTENUS PAR CVD

Résumé
Les procédés de dépôts chimiques à partir d'une phase gazeuse de fluorures de métaux réfractaires permettent d'obtenir des revêtements plus ou moins épais (quelques microns à quelques millimètres), des échantillons massifs ou des poudres fines à ultrafines présentant une grande pureté. Dans ce contexte, ces matériaux contribuent au développement des produits pour la microélectronique pour lesquels les exigences de pureté vont croissantes. On entre dans le domaine de la détermination d'élements traces ou d'ultratraces (pureté de 4N à 6N). Pour les métaux réfractaires obtenus par C.V.D., les méthodes d'analyses par spectrométrie de masse, SIMS et surtout GDMS. sont les mieux adaptées à une analyse panoramique des impuretés recherchées.

Abstract
Characterization of high purity refractory metals obtained by the CVD method. We are here concerned with the procedures of chemical vapor deposition starting from a gaseous phase of refractory metal fluorides enabling - coating of varying thicknessess (from a few µ to a few mm) - solid specimens or - fine and ultrafine powders of high purity to be obtained. In this context, these materials contribute to the development of products for the microelectronics industry for which requirements as regards purity are becoming more and more stringent. We touch upon the field of determination of trace or ultratrace elements (purity from 4N to 6N). For refractory metals obtained using CVD, mass spectrometry analysis methods (SIMS and more importantly GDMS) are those which are best adapted to a broad analysis of the impurities which concern us.