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J. Phys. Colloques
Volume 50, Numéro C5, Mai 1989
Actes de la 7ème Conférence Européenne sur les Dépôts Chimiques en Phase Gazeuse / Proceedings of the Seventh European Conference on Chemical Vapour Deposition
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| Page(s) | C5-719 - C5-725 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1989585 | |
J. Phys. Colloques 50 (1989) C5-719-C5-725
DOI: 10.1051/jphyscol:1989585
UV LIGHT-INDUCED DEPOSITION OF COPPER FILMS
H. ESROM1, G. WAHL1 et U. KOGELSCHATZ21 ASEA Brown Boveri AG, Corporate Research Heidelberg, F.R.G.
2 Corporate Research Baden, Switzerland
Résumé
La décomposition d'acétate de palladium induite par lumière UV est obtenue en utilisant une nouvelle source incohérente à excimère. Avec du xénon, la source à excimère émet à 172 nm. L'exposition à la lumière UV de substrats céramique revêtus d'acétate de palladium a été réalisée à travers des masques en contact. Les dépôts structurés, de palladium ont été épaissis par du cuivre par le procédé de dépôt chimique sans électrode. Les résultats sont comparés aux expériences réalisées avec un laser à excimère.
Abstract
UV light-induced decomposition of palladium acetate was performed by using a new incoherent VUV excimer source. With pure Xe gas the excimer source emits light at a wavelength of 172 nm. The exposure of dip-coated ceramic substrates was accomplished through contact masks. The patterned palladium films were reinforced by an electroless copper plating process. Results are compared with excimer laser beam experiments.