A TWO DIMENSIONAL MODEL FOR LPCVD REACTORS HYDRODYNAMICS AND MASS TRANSFER

C. VINANTE; P. DUVERNEUIL; J.P. COUDERC

doi:doi:10.1051/jphyscol:1989507

Numéro		J. Phys. Colloques Volume 50, Numéro C5, Mai 1989 Actes de la 7ème Conférence Européenne sur les Dépôts Chimiques en Phase Gazeuse / Proceedings of the Seventh European Conference on Chemical Vapour Deposition


Page(s)		C5-35 - C5-43
DOI		https://doi.org/10.1051/jphyscol:1989507

Actes de la 7ème Conférence Européenne sur les Dépôts Chimiques en Phase Gazeuse / Proceedings of the Seventh European Conference on Chemical Vapour Deposition

J. Phys. Colloques 50 (1989) C5-35-C5-43
DOI: 10.1051/jphyscol:1989507

A TWO DIMENSIONAL MODEL FOR LPCVD REACTORS HYDRODYNAMICS AND MASS TRANSFER

C. VINANTE, P. DUVERNEUIL et J.P. COUDERC

E.N.S.I.G.C., CNRS UA-192, chemin de la Loge, F-31078 Toulouse Cedex, France

Résumé
Cet article présente un modèle bidimensionnel qui analyse, en détail, l'hydrodynamique, les phénomènes de transport de matière et de réactions chimiques au sein des réacteurs de LPCVD. Il développe et discute deux cas particuliers correspondant aux dépôts de silicium polycristallin pur et de silicium polycristallin dopé in situ au phosphore. Les résultats mettent en évidence la complexité des phénomènes impliqués et, tout particulièrement, l'importance des réactions homogènes dans la phase gaz.

Abstract
A two dimensional model analyzing in great details the hydrodynamics, mass transport and chemical reactions inside LPCVD reactors is proposed. Two different applications in the cases of depositions of pure polysilicon and of phosphorus in situ doped polysilicon are developed and discussed. The results put in evidence the complex phenomena involved and, particularly, the importance of the homogeneous reactions in the gas phase.