METASTABLE DECAY AND COLLISIONS OF SPUTTERED METAL AND SILICON CLUSTER IONS

Résumé
Les agrégats ioniques, positifs ou négatifs, sont obtenus par bombardement d'une surface par des ions de gaz rares. Une corrélation grossière entre le sputtering yield Y et le nombre maximum d'atomes n dans l'agrégat produit est mise en évidence. La largeur en énergie cinétique des ions formés décroît avec n, tout en restant en général plus importante que celle des agrégats neutres ionisés. La dissociation unimoléculaire qui est dominante conduit à des anomalies en intensité dans les spectres de masse des agrégats. Les taux de dissociation dépendent fortement du temps et mettent en évidence des différences entre les énergies de liaison des agrégats. La distribution en masse des fragments produits par collision d'agrégats sur une cible de gaz rare est très liée aux taux de dissociation.

Abstract
Cluster ions and anions are produced by rare gas ion bombardment of surfaces. A rough correlation between sputtering yield Y and maximum number of atoms in the cluster n is found. Kinetic energy spreads decrease with n, generally being larger than those of ionized neutrals. Strong unimolecular decay leads to intensity anomalies in cluster mass spectra. Decay rate constants are strongly time dependent and reveal differences in cluster binding energies. Fragment patterns resulting from keV cluster collisions in a rare gas target turn out to be strongly related to the decay rates.