Numéro |
J. Phys. Colloques
Volume 50, Numéro C2, Février 1989
Second International Workshop on MeV and keV Ions and Cluster Interactions with Surfaces and Materials
|
|
---|---|---|
Page(s) | C2-127 - C2-131 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1989222 |
J. Phys. Colloques 50 (1989) C2-127-C2-131
DOI: 10.1051/jphyscol:1989222
MASS DISTRIBUTION OF PRODUCTS OF CLUSTER IMPACTS
R.J. BEUHLER and L. FRIEDMANChemistry Department, Brookhaven National Laboratory, Upton, L.I., NY 11973, U.S.A.
Résumé
Les distributions de masses des fragments moléculaires et atomiques ioniques émis à partir de surfaces de carbone par des ions agrégats monochargés et contenant 80 molécules d'eau ont été déterminées. Avec des clusters d'énergie cinétique de 240 keV des rendements significatifs de fragments moléculaires contenant jusqu'à 21 atomes de carbone ont été observés. Les rendements d'ions furent utilisés pour estimer les rendements relatifs des fragments neutres avec l'hypothèse que les rendements relatifs des processus d'émission d'ions et de neutres étaient conditionnés par des facteurs cinétiques qui pouvaient être estimés de façon indépendante. Les rendements de neutres déduits ont servi ensuite à estimer la fraction de l'énergie totale du projectile pour l'émission. Les résultats indiquent qu'une partie importante de l'énergie disponible est impliquée dans le processus d'émission secondaire par agrégat.
Abstract
Mass distributions of ionic atomic and molecular fragments sputtered from carbon surfaces by singly charged positive cluster ions containing 80 water molecules have been determined. With cluster kinetic energy of 240 keV significant yields of molecular fragments containing up to 21 carbon atoms were observed. Ion yields were used to estimate relative yields of neutral fragments with the assumption that relative yields of the respective ionic and neutral sputtering processes were determined by kinetic factors which could be evaluated independently. The derived neutral yields were then used to estimate the fraction of total projectile energy utilized in evaporative cooling, i.e. sputtering. The results indicate a large fraction of the energy available is used in the cluster sputtering process.