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J. Phys. Colloques
Volume 50, Numéro C2, Février 1989
Second International Workshop on MeV and keV Ions and Cluster Interactions with Surfaces and Materials
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| Page(s) | C2-15 - C2-20 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1989203 | |
J. Phys. Colloques 50 (1989) C2-15-C2-20
DOI: 10.1051/jphyscol:1989203
A COMPARISON OF ELECTRONIC SPUTTERING INDUCED BY MOLECULAR AND ATOMIC IONS
A. HEDIN1, P. HÅKANSSON1, B.U.R. SUNDQVIST1 and R.E. JOHNSON21 Division of Ion Physics, Department of Radiation Sciences, University of Uppsala, Box 535, S-751 21 Uppsala, Sweden
2 Department of Nuclear Engineering Physics, University of Virginia, Charlottesville, VA 22901, U.S.A.
Résumé
Des ions moléculaires 12C2 ont été produits à l'accélérateur Tandem d'Uppsala et utilisés dans une expérience de sputtering électronique afin de comparer les rendements de sputtering par ions atomiques et ions moléculaires à la vitesse de 0,49 cm/ns. Les ions secondaires positifs émis par des ions primaires moléculaires ont été étudiés pour la premiere fois. Une interprétation préliminaire indique que les "effets collectifs" sont faibles avec quelques exceptions. Il est démontré également que les conclusions que l'on peut tirer de l'expérience dépendent beaucoup des valeurs de perte d'énergie électronique utilisées.
Abstract
Fast 12C2 molecular ions have been produced in the Uppsala tandem accelerator and used in an electronic sputtering experiment designed to compare sputtering yields produced by molecular and atomic primary ions of 0.49 cm/ns. Positive secondary ions of biomolecules sputtered with molecular primary ions are studied for the first time. The experiments show that "vicinage effects" due to sputtering with molecular primary ions vary in strength with the secondary ion species. It is however also demonstrated that the conclusion of the experiment is strongly dependent on the reliability of electronic stopping power data used in the analysis.