Numéro
J. Phys. Colloques
Volume 48, Numéro C9, Décembre 1987
X-Ray and Inner-Shell Processes
Vol. 1
Page(s) C9-219 - C9-222
DOI https://doi.org/10.1051/jphyscol:1987934
X-Ray and Inner-Shell Processes
Vol. 1

J. Phys. Colloques 48 (1987) C9-219-C9-222

DOI: 10.1051/jphyscol:1987934

LOW LYING ODD PARITY AUTOIONISING STATES IN THE 2p-SUBSHELL ABSORPTION SPECTRUM OF A1 III AND Si IV

J.P. MOSNIER, J. BRILLY and E.T. KENNEDY

National Institute for Higher Education, Glasnevin, Dublin 9, Ireland


Résumé
Le spectre de photoabsorption d'un plasma d'aluminium et d'un plasma de silicium ont ete photographies dans le domaine extreme ultra-violet. La technique d'absorption utilisee fait appel a deux plasmas laser, l'un etant utilise comme source de rayonnement continu, l'autre produisant le milieu absorbant, les spectres correspondant a l'excitation d'un electron de la sous-couche 2p dans les ions de structure sodium Al III et Si IV sont observes dans les conditions experimentales appropriees. Les spectres obtenus sont interpretes a l'aide de resultats de calculs de type multiconfiguration Dirac-Fock.


Abstract
The photoabsorption spectrum of an aluminum plasma and of a silicon plasma were photographed in the EUV region. The absorption technique used utilises two laser plasmas, one produces the background continuum, the other generates the absorbing medium. Under appropriate experimental conditions the 2p-subshell excitation spectra of the sodium-like ions AlIII and Si IV were observed. The observed spectra are interpreted with the help of multiconfiguration Dirac-Fock type calculations.