REFLECTIVITY MEASUREMENTS OF SYNTHETIC MULTILAYERS IN THE 1-5 nm WAVELENGTH RANGE

Résumé
La mesure de la réflectivité intégrée R de deux multicouches constituées de Tungstène et de Silicium a été effectuée dans le domaine des longueurs d'onde s'étendant de 1 à 5 nm. Dans ce travail deux types d'émission X ont été utilisées : - les raies caractéristiques produites par un tube X à anticathode gazeuse ; - les raies de la série de Lyman correspondant à la désexcitation d'un ion hydrogénoïde produit par échange de charge. Un très bon accord a été trouvé entre les deux séries de mesures. Nous comparons les valeurs obtenues de R à celle d'un film de Langmuir-Blodgett (Myristate de Plomb) et d'un cristal organique (Phtalate acide de Rubidium).

Abstract
Reflectivity measurements of two Layered Synthetic Microstructures (LSM) of Tungsten-Silicium has been made in the 1-5 nm wavelength. In this work two kinds of soft X-ray radiations have been used : - characteristic X-rays emitted from an open-window X-ray tube ; - soft X-ray radiation accompanying the decay of hydrogen-like ions produced after charge-exchange. A very good agreement has been found between the two sets of measurements. We compare these latter R values with integrated reflectivity of other diffracting elements, namely : - a Langmuir-Blodgett film (Lead Myristate) - an organic crystal (Rubidium acid Phtalate : Rb AP).