ANELASTIC RELAXATION OF SYNTHETIC α-QUARTZ

Résumé
Q^-1 est mésuré en fonction de la température T de 77 K à 700 K sur du quartz de haute qualité. On observe un pic P₁ à 573 K indépendant du recuit, de l'état de surface et de l'amplitude de déformation : sa hauteur dépend de l'orientation cristallographique (énergie d'activation Ea = 1 eV). P₁ semble dû à la diffusion d'impuretés alcalines. Entre 173 K et 373 K, on observe divers pics très sensibles au recuit. Certains de ces pics semblent liés aux défauts de surface et à la teneur en eau. Le fond continu n'est activé thermiquement qu'au-dessus de 400 K.

Abstract
Q^-1 of high quality quartz is measured as a function of temperature T from 77 K up to 700 K. A single peak (P₁) can be observed at 573 K ; it is not sensitive to surface state, annealing and strain amplitude (E_a = 1 eV activation energy). The P₁ peak seems to be due to alkaline impurity diffusion. Between 173 K and 373 K one can observe various peaks very sensitive to successive temperature rises. Some of these peaks appear to be connected to surface defects and to water-impurity content. The background is thermally activated above 400K only.