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J. Phys. Colloques
Volume 47, Numéro C3, Juillet 1986
International Workshop on Aperiodic Crystals
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| Page(s) | C3-485 - C3-488 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1986349 | |
J. Phys. Colloques 47 (1986) C3-485-C3-488
DOI: 10.1051/jphyscol:1986349
ORDERING PROCESS OF SPUTTERED AMORPHOUS THIN FILMS OF Al Mn UNDER THERMAL TREATMENTS
A. CHENOUFI, B. BOUCHET, J. DIXMIER et C. ECOLIVETLaboratoire de Recherches Métallurgiques de l'INSA de Rouen, UA CNRS n° 808, F-76130 Mont-Saint-Aignan, France
Abstract
We report here preliminary results on an attempt to prepare Al-Mn quasi crystalline thin films by cathodic sputtering. Starting from as deposited amorphous materials we have carried out successive in situ annealings of the sample in the electron microscope. The result is that, if moderate heating leads to crystalline phases, an a posteriori strong local irradiation by the electron beam can transform these crystals into a T phase with numerous defects.
Résumé
Nous reportons ici des résultats préliminaires concernant la préparation de Al Mn quasicristallin à partir de couches minces fabriquées par pulvérisation cathodique. L'échantillon déposé amorphe est soumis à une succession de recuits dans le microscope électronique ; cela induit, pour un chauffage modéré l'apparition de phases cristallines, qui lors de fortes irradiations localisées, par le faisceau d'électrons, se transforment en phase T avec de nombreux défauts.