Numéro
J. Phys. Colloques
Volume 47, Numéro C1, Février 1986
Thirteenth International Conference on Science of Ceramics
Page(s) C1-635 - C1-639
DOI https://doi.org/10.1051/jphyscol:1986197
Thirteenth International Conference on Science of Ceramics

J. Phys. Colloques 47 (1986) C1-635-C1-639

DOI: 10.1051/jphyscol:1986197

MEASUREMENT OF THERMAL DIFFUSIVITY OF REACTION BONDED SILICON NITRIDE

J.-J. SERRA, M. JAYMES et M. CANTAREL

E.T.C.A., 16 bis Avenue Prieur de la Côte d'Or, F-94114 Arcueil Cedex, France


Résumé
La diffusivité thermique d'échantillons de nitrure de silicium lié par réaction, provenant de différents fournisseurs, a été déterminée à l'aide du four solaire de l'ETCA. Deux méthodes de mesure, adaptées à ce type de matériel, ont permis de différencier les origines des matériaux. Cette installation permet d'étudier des éprouvettes relativement importantes, et donc représentatives du matériau opérationnel.


Abstract
The thermal diffusivity of samples of reaction bonded silicon nitride from different sources, was measured using the ETCA solar furnace. Two measurement methods, suitable for use with this type of equipment, allowed the different material origins to be determined. This installation accepts relatively large samples which are therefore representative of the bulk material.