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J. Phys. Colloques
Volume 45, Numéro C9, Décembre 1984
31st International Field Emission Symposium / 31ème Symposium International d'Emission de Champ
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| Page(s) | C9-239 - C9-244 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1984940 | |
J. Phys. Colloques 45 (1984) C9-239-C9-244
DOI: 10.1051/jphyscol:1984940
MORPHOLOGICAL INTERPRETATION OF MODULATED MICROSTRUCTURES
M.K. Miller1, M.G. Burke2 et S.S. Brenner21 Oak Ridge National Laboratory, Oak Ridge, TN 37831, U.S.A..
2 University of Pittsburgh, Pittsburgh, PA 15261, U.S.A.
Résumé
Des analyses de microstructures modulées par microscopie ionique de champ et microscopie électronique en transmission ont montré que les deux techniques peuvent introduire des erreurs graves dans l'interprétation de la morphologie et les mesures quantitatives de la microstructure des alliages contenant de larges proportions volumétriques de seconde phase. Il a été démontré que l'emploi des deux techniques en parallèle améliore la précision et la sûreté des résultats.
Abstract
Atom probe field-ion microscopy and transmission electron microscopy analyses of modulated microstructures have shown that both techniques can introduce serious errors in the interpretation of the morphology and in the quantitative measurements of the microstructure of alloys containing high volume fractions of second phase. It has been demonstrated that the combined use of the two techniques improves the accuracy and reliability of the results.