Numéro
J. Phys. Colloques
Volume 44, Numéro C10, Décembre 1983
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis
Page(s) C10-469 - C10-472
DOI https://doi.org/10.1051/jphyscol:19831093
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis

J. Phys. Colloques 44 (1983) C10-469-C10-472

DOI: 10.1051/jphyscol:19831093

THE BEHAVIOUR OF OXYGEN ON Ni(110) INVESTIGATED BY ELLIPSOMETRY AND AES

L.J. Hanekamp et A. van Silfhout

Department of Applied Physics, Twente University of Technology, P.O. Box 217, 7500 AE Enschede, The Netherlands


Résumé
L'effet sur les paramètres ellipsométriques de l'exposition d'une surface Ni(110) à l'oxygène a été trouvé indépendant de la modification de la surface qui se produit spontanément après bombardement ionique. Un modèle est suggéré selon lequel la modification observée de la surface est expliquée par désorption et diffusion d'argon et d'oxygène, respectivement. La concentration d'oxygène dans la couche superficielle a été déterminée à l'aide de calculs sur des modèles.


Abstract
The effect on the ellipsometric parameters of a Ni(110) surface caused by oxygen exposure has been found to be independent of the change of the surface conditions, that occurs spontaneously after ion bombardment. A model is suggested in which the observed change in the surface conditions is explained by desorption of argon and oxygen, respectivily. The oxygen concentration in the top layer has been determined using model calculations.