Numéro
J. Phys. Colloques
Volume 44, Numéro C10, Décembre 1983
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis
Page(s) C10-349 - C10-352
DOI https://doi.org/10.1051/jphyscol:19831070
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis

J. Phys. Colloques 44 (1983) C10-349-C10-352

DOI: 10.1051/jphyscol:19831070

ELECTROMAGNETIC THEORY OF ENHANCED NONLINEAR OPTICAL PROCESS

M. Nevière1 et R. Reinisch2

1  Laboratoire d'Optique Electromagnétique, E.R.A. 597 CNRS, Faculté des Sciences et Techniques, Centre de St-Jérôme, 13397 Marseille Cedex 13, France
2  Laboratoire de Génie Physique, E.R.A. 836 CNRS, Domaine Universitaire, B.P. 46, 38402 Saint-Martin d'Hères, France


Résumé
Nous développons une théorie électromagnétique rigoureuse de la diffraction de la lumière par un réseau rayé sur un matériau non linéaire. Cette théorie permet l'étude de l'effet Raman géant ou de la génération de second harmonique renforcée par les rugosités de surface.


Abstract
We develop a rigorous electromagnetic theory of diffraction of light by a grating impressed on a nonlinear material. The theory can be used to study Surface Enhanced Raman Scattering or Second Harmonic Generation.