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J. Phys. Colloques
Volume 44, Numéro C10, Décembre 1983
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis
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| Page(s) | C10-199 - C10-203 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:19831041 | |
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis
J. Phys. Colloques 44 (1983) C10-199-C10-203
DOI: 10.1051/jphyscol:19831041
Department of Metallurgy and Materials Engineering, City of London Polytechnic, Whitechapel High Street, London E1 7PF, U. K.
J. Phys. Colloques 44 (1983) C10-199-C10-203
DOI: 10.1051/jphyscol:19831041
POLYPHASE SUBSTRATE ELLIPSOMETRY - A KINETIC INVESTIGATION
E.F.I. Roberts-Sengier, M.A. Hamilton et R. HuntDepartment of Metallurgy and Materials Engineering, City of London Polytechnic, Whitechapel High Street, London E1 7PF, U. K.
Résumé
L'utilité de l'ellipsométrie est augmentée si on peut travailler sur des substrats inhomogènes. On présente un modèle et on l'expérimente par une étude cinétique du système Ti/TiH 2.
Abstract
The usefulness of ellipsometry is enhanced if it is able to work on inhomogeneous substrates. A model is presented and tested by an investigation of the kinetics of the Ti/TiH2 system.