Numéro
J. Phys. Colloques
Volume 44, Numéro C10, Décembre 1983
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis
Page(s) C10-113 - C10-117
DOI https://doi.org/10.1051/jphyscol:19831024
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis

J. Phys. Colloques 44 (1983) C10-113-C10-117

DOI: 10.1051/jphyscol:19831024

INVESTIGATION OF A VERY THIN AND INHOMOGENEOUS FILM OF SiO FROM SURFACE PLASMON OPTICAL EXCITATION

D. Rivière et G.R. Roger

Institut d'Optique Théorique et Appliquée, Laboratoire d'Expériences Fondamentales en Optique, Bâtiment 503, Centre Universitaire d'Orsay, B.P. 43, 91406 Orsay Cedex, France


Résumé
On utilise l'excitation optique d'ondes superficielles de plasma pour caractériser une couche très mince et inhomogène de SiO, en tenant compte de la rugosité et des effets d'anisotropie.


Abstract
The optical excitation of surface plasma waves is used to characterize a very thin and inhomogeneous film of SiO, the roughness and anisotropy effects being taken into account.