Numéro
J. Phys. Colloques
Volume 44, Numéro C10, Décembre 1983
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis
Page(s) C10-109 - C10-112
DOI https://doi.org/10.1051/jphyscol:19831023
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis

J. Phys. Colloques 44 (1983) C10-109-C10-112

DOI: 10.1051/jphyscol:19831023

ACCURACY IN THE DETERMINATION OF THIN FILMS OPTICAL CONSTANTS BY THE ATR METHOD

G. Hincelin

CNAM, Laboratoire de Physique du Vide et des Composants Electroniques, 292, rue Saint-Martin, 75141 Paris Cedex 03, France


Résumé
On montre que l'existence d'erreurs systématiques importantes provenant des imperfections du faisceau d'analyse permettent d'expliquer la décroissance anormale de l'épaisseur calculée en fonction de la longueur d'onde dans le proche infrarouge.


Abstract
In this paper we present evidence that important systematic errors, owing to the light beam imperfections, account for the anomalous decrease of the calculated values of the film thickness as a function of the wavelength in the near infrared.