Numéro
J. Phys. Colloques
Volume 44, Numéro C10, Décembre 1983
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis
Page(s) C10-105 - C10-108
DOI https://doi.org/10.1051/jphyscol:19831022
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis

J. Phys. Colloques 44 (1983) C10-105-C10-108

DOI: 10.1051/jphyscol:19831022

DIFFERENTIAL REFLECTOMETRY

R.E. Hummel

Department of Materials Science and Engineering, University of Florida, Gainesville, Florida 32611, U.S.A.


Résumé
La réflectométrie différentielle (RD), dans laquelle la différence normalisée entre les reflectivités de deux échantillons est mesurée en fonction de l'énergie des photons, combine les avantages de l'ellipsometrie spectroscopique et de la reflectivité spectrale. Le principal avantage de la RD est qu'elle permet d'éliminer l'influence indésirable d'oxydes, de fenêtres, d'électrolytes, de variations instrumentales, etc. Grâce à la nature différentielle de cette technique, le vide n'est pas nécessaire. Par conséquent, les couches superficielles peuvent être étudiées in situ. Quelques applications sont présentées dans ce papier.


Abstract
The advantages of spectroscopic ellipsometry and spectral reflectivity are combined in differential reflectometry, in which the normalized difference between the reflectivities of two specimens is measured as a function of photon energy. The main advantage of DR lies in its ability to eliminate any undesirable influences of oxides, windows, electrolytes, instrumental variations, etc. Owing to the differential nature of the technique, no vacuum is needed. Thus, surface layers can be studied in situ. Some applications are presented in this paper.