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J. Phys. Colloques
Volume 44, Numéro C10, Décembre 1983
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis
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| Page(s) | C10-101 - C10-104 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:19831021 | |
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis
J. Phys. Colloques 44 (1983) C10-101-C10-104
DOI: 10.1051/jphyscol:19831021
IBM Gemany, D-7032 Sindelfingen, F.R.G.
J. Phys. Colloques 44 (1983) C10-101-C10-104
DOI: 10.1051/jphyscol:19831021
A COMPUTER INTEGRATED SPECTROPHOTOMETER FOR FILM THICKNESS MONITORING
H.-E. KorthIBM Gemany, D-7032 Sindelfingen, F.R.G.
Résumé
Nous décrivons un spectrophotomètre à réseau miniaturisé, destiné à l'analyse des couches minces, construit pour s'intégrer dans l'environnement d'un mini-ordinateur. Le spectromètre, l'électronique de contrôle, la mémoire et l'alimentation sont intégrés sur un seul circuit imprimé.
Abstract
A miniaturized grating spectrophotometer for thin film analysis is described that was designed to fit into a minicomputer environment. Spectrometer, control electronics, buffer storage and power supply are integrated on a single print card.