REFLECTIVITE HEMISPHERIQUE ET DIFFUSE DE COUCHES MINCES DE TUNGSTENE PREPAREES PAR DECOMPOSITION EN PHASE VAPEUR

Résumé
Sur supports de quartz fondu, par décomposition en phase vapeur (CVD) de l'hexacarbonyle de tungstène W(CO)₆, en présence ou non d'oxygène, sont obtenus deux types de matériau en couches minces, appelés respectivement "tungstène noir" (constitué principalement d'oxydes de tungstène) ou "tungstène réflecteur" (composé essentiellement de carbures de tungstène). A partir des mesures, à température ambiante, des pouvoirs réflecteurs hémisphérique, spéculaire et diffus, effectuées entre 0,25 et 15 µm immédiatement après la préparation ou après le recuit dans différentes atmosphères, sont déterminées les caractéristiques de sélectivité des couches. L'évolution de l'état de cristallisation, de la composition et de la rugosité de surface, en fonction des conditions de préparation et de recuit dans les différentes atmosphères, est mise en évidence par des mesures de diffraction de rayons X et de microscopie électronique à balayage.

Abstract
Two kinds of thin films were prepared on fused quartz substrates by chemical vapor decomposition (CVD) of tungsten hexacarbonyle W(CO)₆ in the presence or absence of oxygen. One, called "black tungsten", is mainly composed by tungsten oxides, the other, "reflective tungsten", is constituted by tungsten carbide. The caracteristics of selectivity were determined from measurements of hemispherical, diffuse and specular reflectances in the spectral range of 0.25 to 15 µm, immediately after preparation or after annealing in argon, hydrogen or air. The evolution of the crystallinity, composition and surface texture as function of preparation conditions and annealings was shown by XR diffraction patterns and scanning electron micrographs.