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J. Phys. Colloques
Volume 40, Numéro C7, Juillet 1979
XIVe Conférence Internationale sur les Phénomènes d'Ionisation dans les Gaz / XIVth International Conference on Phenomena in Ionized Gases
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| Page(s) | C7-47 - C7-56 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:19797428 | |
J. Phys. Colloques 40 (1979) C7-47-C7-56
DOI: 10.1051/jphyscol:19797428
Contact electrode processes and microplasma diagnostics
F. Llewellyn-JonesDepartment of Physics, University College of Swansea, University of Wales, Swansea, U.K.
Résumé
Le microplasma suivant la séparation de contacts électriques, l'initiation de l'arc, ou l'émission d'ions de métaux fondus, agit avec les électrodes, même dans les conditions de tensions basses (~ 4 V). La physique de la rupture de shunt métallique fondu et du microplasma est étudiée à fond par l'utilisation des ciné-films rapides (104 f/s et 106 f/s). On a observé le spectre de recombination émis à partir de la vapeur métallique des électrodes en employant les mesures oscillographiques rapides du temps et un agrandisseur. Les résultats et les propriétés du microplasma, par exemple la densité des particules et la température, sont décrits et analysés.
Abstract
In many operations such as breaking a circuit, arc initiation, ion emission from molten metals, the ensuing plasma interacts with electrodes, even in low voltage (~ 3 V) conditions. The physics of metal behaviour in such cases is discussed, and the evidence for formation of a microplasma assessed. An account is given of investigation of the plasma properties temperature, neutral metal gas density, and electron concentration obtained by time-resolves spectroscopy, and the behaviour of the microscopic molten metal bridge and the formation of a microplasma are demonstrated by high-speed cine films (104 f/s and 0.4 x 106 f/s).