Numéro
J. Phys. Colloques
Volume 39, Numéro C6, Août 1978
The XVth International Conference on low temperature physics
Quantum Fluids and Solids
Superconductivity
Page(s) C6-967 - C6-969
DOI https://doi.org/10.1051/jphyscol:19786429
The XVth International Conference on low temperature physics
Quantum Fluids and Solids
Superconductivity

J. Phys. Colloques 39 (1978) C6-967-C6-969

DOI: 10.1051/jphyscol:19786429

SHORT TIME TRANSIENT TEMPERATURE PROFILES IN HIGH PURITY VITREOUS SILICA : A TIME DEPENDENT SPECIFIC HEAT

J.E. Lewis1, J.C. Lasjaunias2 and G. Shumacher2

1  Department of Physics, SUNY, Plattsburgh, NY 12901, U.S.A.
2  Centre de Recherches sur les Très Basses Températures, CNRS, B.P. 166 X, 38042 Grenoble Cedex, France


Résumé
On a étudié à très basse température sur de la silice vitreuse de haute pureté (< 1,5 ppm OH, < 0,5 ppm d'ions métalliques) les profils transitoires de température entre 30 ms et 1 s., par une technique répétitive de moyennement de signal. En dessous de 200 mK, les résultats sont en accord avec le modèle théorique des systèmes à deux niveaux, pour lequel C(t, T) = AT 1n t/τ[MATH], avec τ[MATH] α T-3. La valeur du coefficient de couplage n0[MATH]2 est comparée à celles tirées d'autres experiences.


Abstract
Very low temperature transient temperature profiles in high purity vitreous SiO2 (< 1.5 ppm. OH, < 0.5 ppm metal ions) have been obtained between 30 ms and 1 s., using signal averaging techniques. The data below 200 mK are in agreement with a theoretical model for localized two level systems where C(t, T) = AT 1n t/τ[MATH] with τ[MATH] αT-3. The coupling factor n0[MATH]2 is compared to other experimental values.