Numéro
J. Phys. Colloques
Volume 38, Numéro C5, Novembre 1977
COLLOQUE INTERNATIONAL DU C.N.R.S.
Propriétés Optiques des Interfaces Solide-Liquide / Optics at the Solid-Liquid Interface
Page(s) C5-157 - C5-162
DOI https://doi.org/10.1051/jphyscol:1977520
COLLOQUE INTERNATIONAL DU C.N.R.S.
Propriétés Optiques des Interfaces Solide-Liquide / Optics at the Solid-Liquid Interface

J. Phys. Colloques 38 (1977) C5-157-C5-162

DOI: 10.1051/jphyscol:1977520

ANALYSE STATISTIQUE DES DONNÉES SPECTRORÉFLECTOMÉTRIQUES POUR L'ÉTUDE DES FILMS D'OXYDE

G. BLONDEAU, M. FROELICHER, M. FROMENT and A. HUGOT-LE GOFF

C. N. R. S. Physique des Liquides et Electrochimie, Université Pierre et Marie Curie, 4, Place Jussieu 75230 Paris cedex 05, France


Résumé
On décrit une méthode d'étude des films croissant sur un substrat métallique basée sur l'analyse statistique du pouvoir réflecteur R des surfaces. Cette méthode est applicable à tous les cas d'oxydation, où se forment des films d'épaisseur supérieure à quelques dizaines d'Å. Elle consiste à déterminer les inconnues des équations de Fresnel par analyse statistique de R en fonction de paramètres expérimentaux gouvernant l'épaisseur du film tels que durée ou température d'oxydation, tension anodique, etc... On peut ainsi, pour toute longueur d'onde s'étendant du proche U. V. à l'I.R., ajuster en même temps les indices n et k du film et certains paramètres inconnus du système. Dans un premier exemple, relatif à l'oxydation du nickel, on montre qu'il est possible d'ajuster en même temps que n et k les 2 paramètres décrivant la loi de croissance du film. Dans le second exemple, relatif à l'oxydation anodique du titane, on a ajusté simultanément les indices du film et ceux du titane sous-jacent.


Abstract
A method to study films growing on a metallic substrate is described. It is based on the statistical analysis of the reflectance R of surfaces. This method can be applied to any oxidation experiment where films thicker than about 50 Å are formed. One evaluates the unknowns of the Fresnel equations by statistical analysis of R as function of experimental parameters linked to the film thickness such as temperature or time of oxidation, anodic voltage, etc... For any wave length, between near U. V. and I.R., it is possible to adjust at the same time n and k indices of the film and others unknown parameters of the system. In a first example, concerning oxidation of nickel, we show the possibility of adjusting at the same time n and k but also two parameters describing the film growth. In a second example, about oxidation of titanium, we have adjusted simultaneously the film and the substrate indices.