ELLIPSOMÉTRIE
ÉTUDE DE L'INTERFACE OR-ÉLECTROLYTE PAR ELLIPSOMÉTRIE AVEC EXCITATION DE PLASMONS DE SURFACE

Résumé
Les interfaces Au/H₂SO₄ et Au/HClO₄ ont été étudiés par ellipsométrie avec excitation de plasmons de surface dans une plage de potentiel comprenant la zone de couche double et la zone de l'oxyde. Dans la zone de couche double, nous avons pu séparer la contribution au signal optique de la surface du métal de celle de la couche double électrolytique. La profondeur de pénétration du champ électrique dans le métal a été déterminée pour des charges inférieures à 20 µC.cm^-2. La comparaison des deux électrolytes a permis d'évaluer l'effet optique de l'adsorption de SO^-₄. Dans la zone de l'oxyde, nous avons calculé la constante diélectrique complexe du film d'oxyde pour chaque potentiel au cours de l'oxydation et de la réduction ; ceci nous a permis de préciser le mécanisme de ces deux réactions.

Abstract
Au-H₂SO₄ and Au-HClO₄ interfaces have been studied by surface plasmons waves ellipsometry in the double layer and oxide range. The effects of the metal surface and the inner layer of potential, on the optical parameters have been separated. The screening depth into the metal has been determined for surface charges smaller than 20 µC.cm^-2. By comparing the results obtained with the two electrolytes, we have reached the optical effect of SO^-₄ adsorption. The variations against potential of the oxide film complex dielectric constant have been determined during oxidation and reduction processes. This allows us to precise oxidation and reduction mechanisms.