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J. Phys. Colloques
Volume 35, Numéro C7, Décembre 1974
EXPOSÉS et COMMUNICATIONS présentés au Colloque Dissociation des dislocations / Dissociation of dislocations
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Page(s) | C7-141 - C7-148 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1974715 |
EXPOSÉS et COMMUNICATIONS présentés au Colloque Dissociation des dislocations / Dissociation of dislocations
J. Phys. Colloques 35 (1974) C7-141-C7-148
DOI: 10.1051/jphyscol:1974715
Electron Microscope Unit, University of Sydney, N. S. W., 2006, Australia
J. Phys. Colloques 35 (1974) C7-141-C7-148
DOI: 10.1051/jphyscol:1974715
THE WEAK-BEAM TECHNIQUE AS APPLIED TO DISSOCIATION MEASUREMENTS
D. J. H. COCKAYNEElectron Microscope Unit, University of Sydney, N. S. W., 2006, Australia
Résumé
La méthode du faisceau faible en microscopie électronique est appliquée à la mesure de la séparation des dislocations partielles. On analyse la précision des résultats expérimentaux obtenus, et on envisage l'ensemble des hypothèses utilisées pour en déduire des valeurs de l'énergie de faute d'empilement γ.
Abstract
The application of the weak-beam method of electron microscopy to the measurement of the separation of partial dislocations < 2.0 nm is discussed. The accuracy of the experimental results is analysed, and approximations in obtaining values of the stacking-fault energy, γ, are outlined.