Actes de la 7ème Conférence Européenne sur les Dépôts Chimiques en Phase Gazeuse / Proceedings of the Seventh European Conference on Chemical Vapour Deposition

J. Phys. Colloques 50 (1989) C5-709-C5-717
DOI: 10.1051/jphyscol:1989584

PROTECTION CONTRE L'OXYDATION DE POUDRES DE FER DESTINÉES A L'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE PAR DÉPÔT DE SILICIUM EN LIT FLUIDISÉ

A. GALERIE¹, G. LE DÛ¹, M. CAILLET¹, P.A. MARI² et B. PINGAUX<sup>2

1</sup>  Laboratoire "Sciences des Surfaces et Matériaux Carbonés", S2MC, CNRS UA-413, Ecole Nationale Supérieure d'Electrochimie et d'Electrométallurgie, Institut National Polytechnique de Grenoble, BP. 75, F-38402 St Martin d'Hères, France
²  Laboratoire Magnétique Kodak-Pathé, Centre de Recherches et de Technologie, Zone Industrielle, F-71102 Châlon sur Saône Cedex, France

Résumé
Nous avons montré qu'il est possible, malgré la taille réduite et la morphologie particulière des poudres de fer adaptées à l'enregistrement magnétique, d'améliorer notablement la tenue de ces poudres à l'oxydation sans abaisser de façon trop importante leurs propriétés magnétiques. Le procédé retenu est le dépôt de silicium à partir de monosilane qui doit s'effectuer en lit fluidisé pour assurer une bonne régularité du dépôt sur tous les grains de fer et à température n'excédant pas 400°C pour ne pas compromettre la dispersabilité des poudres. Ce dépôt est prolongé par une oxydation ménagée passivante. La cinétique de dépôt a été suivie à 310 et 350°C sur des poudres préparées in-situ par réduction de goethite FeOOH. Les courbes cinétiques comprennent deux parties linéaires séparées par une diminution notable de la vitesse. Elles peuvent être expliquées en faisant l'hypothèse que le dépôt de silicium est régi par un régime mixte d'adsorption-réaction.

Abstract
Despite the reduced size and particular morphology of the iron powders used for magnetic recording purpose, it was shown to be possible to enhance their resistance against oxidation without lowering their magnetic properties. The chosen process was silicon deposition from monosilane in a fluidized bed reactor, at temperatures less than 400°C, followed by partial oxidation. The kinetics of deposition were followed at 310 and 350°C on iron powders prepared by in- situ reduction of goethite FeOOH. The kinetical curves exhibit two linear stages and can be explained by a mixed regime involving two slow processes : adsorption of monosilane and silicon nucleation.