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J. Phys. Colloques
Volume 50, Number C5, Mai 1989
Actes de la 7ème Conférence Européenne sur les Dépôts Chimiques en Phase Gazeuse / Proceedings of the Seventh European Conference on Chemical Vapour Deposition
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| Page(s) | C5-595 - C5-604 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1989570 | |
J. Phys. Colloques 50 (1989) C5-595-C5-604
DOI: 10.1051/jphyscol:1989570
QLTO, A CLASSICAL PROCESS STILL GOING STRONG
W. VAN HEUMEN et M. HENDRIKSASM Micro Electronics Technology Centre, PO Box 100, NL-3720 AC Bilthoven, The Netherlands
Résumé
L'article décrit un procédé industriel de formation de Quartz, Oxyde à Basse Température (QLTO) dans un réacteur turbulaire horizontal à parois chaudes, pour le traitement d'une charge de 100 plaquettes de 150 mm de diamètre. Il présente l'influence des paramètres du procédé et de la conception de la cassette à cage. Il décrit une méthode d'injection du gaz qui permet d'équilibrer le profil sur le bateau. La phosphine et le tri-méthylborate ont été utilisés comme sources d'agents dopants. Enfin, l'article présente les niveaux de particules que le procédé permet d'atteindre dans des conditions variées.
Abstract
An industrial Quartz Low Temperature Oxide (QLTO) process for 150 mm wafers and a guaranteed load of 100 wafers with a diameter of 150 mm in a horizontal tube, hot wall reactor is described. The influence of process parameters and caged cassette design is dealt with. A method of gas injection is described that allows balancing of the profile over the boat. Phosphine (PH3) and Trimethylborate (TMB) were used as source materials for phosphorus and boron doping. FinalIy, particle levels that can be achieved in this process under various conditions are presented.