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J. Phys. Colloques
Volume 48, Number C9, Décembre 1987
X-Ray and Inner-Shell ProcessesVol. 1 |
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Page(s) | C9-927 - C9-930 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:19879165 |
Vol. 1
J. Phys. Colloques 48 (1987) C9-927-C9-930
DOI: 10.1051/jphyscol:19879165
OXYGEN AUGER EMISSION AND FINAL STATE SCREENING IN OXIDES
P. HUMBERT and J.P. DEVILLEEquipe d'Etude des Surfaces, CNRS UA-795, Université Louis Pasteur, 4, Rue Blaise Pascal, F-67000 Strasbourg, France
Résumé
L'interaction effective Ueff entre les deux lacunes de l'état final des transitions OKLL peut être calculée à partir des énergies de liaison et des énergies cinétiques Auger obtenues par XPS/XAES. Des résultats cohérents ne sont obtenus qu'en tenant compte dans ce modèle du caractère liant ou non-liant des états 02p. Nous en déduisons que les transitions Auger OKLL quasi-atomiques faisant intervenir la bande de valence sont déterminées par la densité d'états locale.
Abstract
Using a three-step model to describe the Auger process, the effective interaction Ueff between the two final-state holes of the 0 KLL transitions can be derived from binding and Auger kinetic energies measured by XPS/XAES. Consistent results were only found if the bonding character of the 02p-derived orbitals was included in the model. We thus conclude that the quasi-atomic 0 KLL Auger transitions involving the valence band are determined by the local density of states.