STRUCTURAL AND ELECTRONIC PROPERTIES OF ARTIFICIAL METALLIC SUPERLATTICES

Résumé
Des progrès récents dans la technique de déposition de film mince ont motivé de reprendre l'intéressement aux superréseaux métalliques préparés artificiellement. Ces derniers montrent des propriétés physiques différentes de celles des matériaux produits naturellement. Cet article décrit la technique de pulvérisation cathodique utilisée pour la préparation de ces superréseaux métalliques, aussi bien que les considérations affectant leurs puretés, les qualités des interfaces et les orientations cristallographiques. La contribution des interfaces aux propriétés du transport électronique est décrite en termes de théories des effets de taille finie.

Abstract
Recent progress in thin film deposition techniques has motivated renewed interest in 'artificially prepared' metallic super lattices, exhibiting different physical properties than those in naturally occuring materials. This paper describes the sputtering technique used to prepare these metallic superlattices, as well as considerations affecting their purity, interfacial quality and crystallographic orientation. The contribution of the interfaces to the electronic transport properties is described in terms of finite size effect theories.