| Issue |
J. Phys. Colloques
Volume 45, Number C2, Février 1984
10ème Congrès International d'Optique des Rayons X et de Microanalyse 10th International Congress on X-Ray Optics and Microanalysis |
|
|---|---|---|
| Page(s) | C2-393 - C2-396 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1984289 | |
10th International Congress on X-Ray Optics and Microanalysis
J. Phys. Colloques 45 (1984) C2-393-C2-396
DOI: 10.1051/jphyscol:1984289
THEORETICAL STUDY OF THE SPATIAL RESOLUTION OF X-RAY MICROANALYSIS IN ANALYTICAL ELECTRON MICROSCOPY
K. Murata, M. Kawamura et K. NagamiUniversity of Osaka Prefecture, Sakai, Osaka 591, Japan
Résumé
La résolution spatiale de la microanalyse par rayons X a été étudiée par des calculs Monte-Carlo, en incluant la production d'électrons secondaires. Les résultats pour Au Mα dans un film mince d'or de 1000 Å à 100 keV diffèrent de ceux obtenus sans tenir compte de la production d'électrons secondaires. Des calculs ont été faits avec la section efficace de Mott au lieu de celle de Rutherford écrantée, pour la diffusion élastique. Des différences notables sont trouvées entre les trois modèles.
Abstract
The spatial resolution of X-ray microanalysis has been investigated by Monte Carlo calculations, including knock-on secondary electron production. The results for AuMα in a l000Å thin Au film at 100 keV showed an appreciable difference from the ones without knock-out events. Also calculations have been done with the Mott cross-section instead of the screened Rutherford cross-section for elastic scattering. A significant difference was found in the results among the three models.