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J. Phys. Colloques
Volume 44, Number C10, Décembre 1983
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis
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| Page(s) | C10-53 - C10-56 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:19831010 | |
J. Phys. Colloques 44 (1983) C10-53-C10-56
DOI: 10.1051/jphyscol:19831010
A MICROPROCESSOR CONTROLLED SPECTROELLIPSOMETER FOR STUDY OF ELECTROCHEMICAL SYSTEMS
S.V. Pihlajamäki et J.J. KankareDepartment of Chemistry, University of Turku, SF-20500 Turku 50, Finland
Résumé
Un ellipsomètre automatique à modulation de phase est décrit. L'instrument peut simultanément faire des mesures ellipsométriques et électrochimiques, contrôlées par un microprocesseur. Les longueurs d'onde entre 250 nm et 550 nm peuvent être utilisées. L'instrument a été utilisé pour déterminer la composition d'un film adsorbé sur sulfure de cuivre(I) dans une solution deoxygénée de xanthate d'éthyle à un potentiel contrôlé.
Abstract
An automatic phase-modulation ellipsometer is described. The instrument can perform ellipsometric and voltammetric measurements simultaneously, controlled by a microprocessor. The wavelength range that can be used is 250 -550 nm. The instrument has been used to determine the composition of a film adsorbed on copper(I) sulfide in deoxygenated ethyl xanthate solution at controlled potential.