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J. Phys. Colloques
Volume 44, Number C10, Décembre 1983
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis
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| Page(s) | C10-35 - C10-38 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:19831006 | |
Conférence Internationale sur Ellipsométrie et autres Méthodes Optiques pour l'Analyse des Surfaces et Films Minces / Ellipsometry and other Optical Methods for Surface and Thin Film Analysis
J. Phys. Colloques 44 (1983) C10-35-C10-38
DOI: 10.1051/jphyscol:19831006
Research Institute for Scientific Measurements, Tohoku University, Sendai 980, Japan
J. Phys. Colloques 44 (1983) C10-35-C10-38
DOI: 10.1051/jphyscol:19831006
ELLIPSOMETRY OF THICK (d>λ) TRANSPARENT FILMS USING CHANNELLED SPECTRUM
M. YamamotoResearch Institute for Scientific Measurements, Tohoku University, Sendai 980, Japan
Résumé
On décrit dans cet article une méthode ellipsométrique d'extinction simple et de haute précision pour des films épais (d>λ), qui utilise le spectre cannelé de la lumière polarisée. On donne des résultats expérimentaux pour des films de MgF2. Cette méthode s'avère utile pour l'étude détaillée des propriétés optiques de films épais transparents ou faiblement absorbants.
Abstract
A simple method of precision null-ellipsometry for thick (d>λ) films, in which use is made of polarized-light-channelled-spectrum, is described. Experimental results with MgF2 films are given. The method is useful for the detailed study of the optical properties of transparent or weakly absorbing thick films.