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J. Phys. Colloques
Volume 36, Number C6, Novembre 1975
EXPOSÉS et COMMUNICATIONS présentés au COLLOQUEPlasmas pour Lasers / Lasers Plasmas |
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Page(s) | C6-25 - C6-33 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jphyscol:1975606 |
Plasmas pour Lasers / Lasers Plasmas
J. Phys. Colloques 36 (1975) C6-25-C6-33
DOI: 10.1051/jphyscol:1975606
PHOTOIONISATION D'UN MÉLANGE GAZEUX CO2-N2-He A LA PRESSION ATMOSPHÉRIQUE
R. FABBRO, J. BRUNETEAU and E. FABRELaboratoire de Physique des Milieux Ionisés, Groupe de Recherche du C.N.R.S. Ecole Polytechnique, 91120 Palaiseau, France
Résumé
L'introduction de composés organiques, à faible potentiel d'ionisation, aux mélanges gazeux CO2-N2-He utilisés dans les lasers TEA CO2, se révèle être un moyen efficace pour augmenter la densité électronique obtenue par photoionisation de ces mélanges. Les additifs que nous avons utilisés sont : le xylène (Ei = 8,5 eV), la tri-n-propylamine (Ei = 7,23 eV) et la N-N-diéthyl-aniline (Ei = 7 eV). L'étude de la photoionisation du mélange azote + additifs montre que ces additifs introduisent des processus de disparition d'électrons caractéristiques d'une recombinaison électronique ; nous en déduisons aussi les sections efficaces d'absorption de ces composés organiques. Le rôle du CO2 est discuté : nous constatons qu'il atténue le rayonnement U. V. utile à la photoionisation et qu'il modifie le régime des pertes d'électrons en introduisant de l'attachement électronique. Les conséquences que cela entraîne dans le choix des additifs et dans la réalisation d'une source de photons U.V. adaptée sont précisées.
Abstract
Introduction of low ionization potential organic molecule to the CO2-N2-He mixture of TEA CO2 lasers, appears to be an efficient way of increasing electronic density obtained by photoionization. The additives used are : xylène (Ei = 8,5 eV), tri-n-propylamine (Ei = 7,23 eV and N-N-diethylaniline (Ei = 7 eV). The study of the photoionization of the mixture nitrogen + additives show that these additives are responsible of electronic recombination. The absorption cross-sections of these additives are measured. The action of CO2 is discussed : its reduces the mean-free path of the U.V. photons and modifies the electronic disparition processes, introducing electronic attachment. Its importance in the choice of the additives and in the optimization of the U.V. photons spark source is precised.