Supplément au Journal de Physique Colloques

EFFECT OF DEPOSITION TEMPERATURE ON PLASMA GROWN ALUMINUM OXIDE FILMS

C. BOURREAU et Y. CATHERINE

J. Phys. Colloques, 49 C4 (1988) C4-409-C4-412

DOI: 10.1051/jphyscol:1988486

C. BOURREAU

Y. CATHERINE

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