Supplément au Journal de Physique Colloques

PROPERTIES OF WSi₂ : OHMIC CONTACT TO N⁺ AND P⁺ Si, BARRIER BETWEEN Al AND Si, AND FEASIBILITY AS FIRST METAL IN MULTILEVEL METALLIZATION PROCESSES

S.-L. ZHANG, M. HAMMAR, T. JOHANSSON et R. BUCHTA

J. Phys. Colloques, 49 C4 (1988) C4-171-C4-174

DOI: 10.1051/jphyscol:1988434

S.-L. ZHANG

M. HAMMAR

T. JOHANSSON

R. BUCHTA

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