Supplément au Journal de Physique Colloques

RELIABILITY ASPECTS OF VLSI METALLISATION WITH DIFFUSION BARRIERS

G. RÖSKA et F. NEPPL

J. Phys. Colloques, 49 C4 (1988) C4-495-C4-498

DOI: 10.1051/jphyscol:19884102

G. RÖSKA

F. NEPPL

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