CROISSANCE EPITAXIQUE D'ARSENIURE DE GALLIUM PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR A PARTIR D'UN NOUVEAU COMPOSE ORGANOMETALLIQUE LE MONOCHLORODIMETHYLGALLIUM-TRIETHYLARSINE
J. Phys. Colloques, 43 C5 (1982) C5-421-C5-426
DOI: https://doi.org/10.1051/jphyscol:1982548