Numéro
J. Phys. Colloques
Volume 51, Numéro C5, Septembre 1990
European Congress on Thermal Plasma Processes and Materials Behaviour at High Temperature
Page(s) C5-207 - C5-212
DOI https://doi.org/10.1051/jphyscol:1990525
European Congress on Thermal Plasma Processes and Materials Behaviour at High Temperature

J. Phys. Colloques 51 (1990) C5-207-C5-212

DOI: 10.1051/jphyscol:1990525

MODÉLISATION DE LA DIFFUSION ET DE LA DÉCOMPOSITION SIMULTANÉES DANS UN JET DE PLASMA DE COMPOSÉS CHIMIQUES (TiCl4, BCl3, WCl6) EN TENANT COMPTE DE L'ÉVOLUTION DES COEFFICIENTS DE TRANSPORT

J. GUILLY, M. PENNANEACH et F. EL BALGHITI

Laboratoire de Recherche Universitaire, 63 avenue de Lattre de Tassigny, 18028 Bourges, France


Résumé
Un composé chloré (BCl3, TiCl4, WCl6) est introduit froid dans un plasma d'argon soufflé à grande vitesse. L'écriture en axisymétrique des équations de la diffusion pour chaque espèce en tenant compte des variations locales des coefficients de transport et le calcul simultané de la composition, permet de tracer en fonction des coordonnées les courbes de concentrations à cinq espèces et les courbes de température. Les résultats mettent en évidence l'importance des coefficients de diffusion et leurs variations lorsque l'on désire optimiser les conditions de dépôt pour obtenir à la fois une bonne répartition spatiale et une bonne pureté difficile à obtenir dans le cas du titane.


Abstract
A chemical compound (BCl3, TiCl4, WCl6) is introduced at low temperature in a high velocity argon plasma jet. For each species, the equation of diffusion are written. They take into account the variation of diffusivity with temperature and local thermal equilibrium. The curves of the concentrations for five species, and of the temperature are drown. The results show the importance of molar mass of the species to be deposited. So it is possible to foresee the best position of substrate especially for purity of titanium.